Introducción y flujo de proceso del objetivo de circonio
El material de zirconio (Zr) para pulverización catódica tiene las mismas propiedades que su materia prima. Su densidad es de 6,49 g/cc, su punto de fusión es de 1852 grados y su presión de vapor es de 10-4 Torr a 1987 grados.
El objetivo de pulverización catódica de circonio se utiliza ampliamente en los campos de recubrimiento decorativo, semiconductores y recubrimiento óptico.
Proceso de preparación de dianas de circonio
Preparación de materiales - Fusión por haz de electrones - Análisis químico - Forjado - Laminado - Recocido - Inspección metalográfica - Mecanizado - Inspección dimensional - Limpieza - Inspección final - Embalaje
Aplicación de dianas de pulverización catódica de circonio
Ampliamente utilizado en deposición de películas delgadas, celdas de combustible, decoración, semiconductores, pantallas, LED y dispositivos fotovoltaicos, recubrimientos funcionales y otras industrias espaciales de almacenamiento de información óptica, industrias de recubrimiento de vidrio como vidrio automotriz y vidrio arquitectónico, comunicaciones ópticas y otros campos.
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Parámetros relevantes de los objetivos de circonio
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Artículo: |
Zr (circonio) |
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Densidad |
6,49 g/cm3 |
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Punto de fusión |
Grado 1852 |
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Punto de ebullición |
4377 grados |
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Color |
Gris claro |
Entorno de la empresa y visitas a clientes
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