Objetivo de circonio

Objetivo de circonio

Composición química: Zr
Color: Gris plata
Pureza: Alta pureza
Tamaño: Acepta personalización
Envíeconsulta
Descripción
Parámetros técnicos
Fábrica de objetivos de pulverización catódica de Zr de ZhenAn

 

Zhenan tiene más de 30 años de experiencia en la producción de objetivos de pulverización catódica de circonio y puede brindarle un servicio exclusivo personalizado. Si está interesado en el producto, puede comunicarse con nosotros para consultar el precio correspondiente.

 

Blanco de pulverización catódica de circonio de alta pureza

 

Los objetivos de pulverización catódica de circonio (Zr) se utilizan en semiconductores, en aplicaciones ópticas y de visualización por deposición química de vapor (CVD) y por deposición física de vapor (PVD).

Nuestra fábrica se especializa en la producción de objetivos de pulverización catódica de circonio (Zr) de alta densidad y pureza al precio más bajo.

 

Especificaciones de objetivos de circonio de alta calidad

 

nombre del producto

Objetivo de circonio

Pureza disponible

99,95 % mínimo, según lo solicite

Forma disponible

redondas, rectangulares, pellets

Densidad

6,508/cm3

Punto de fusion

Grado 1852

Tecnología

Derritiendo

 

Ventajas de los objetivos de circonio en nuestra fábrica

 

  1. Superficie lisa, sin poros, arañazos y otros defectos.
  2. Rectificado o torneado de cantos sin marcas de corte

 

Nuestro servicio

 

  1. Fabricante profesional con --15 años de experiencia
  2. Control de calidad estricto: inspección SGS
  3. Alta capacidad de suministro--3000MT/mes
  4. Entrega inmediata: en un plazo de 15 días

 

high quality zr sputtering target

Zr Sputtering Target Manufacturer

Zr Sputtering Targets

 

Zhenan cuenta con un equipo de transporte profesional para garantizar la seguridad del entorno de transporte de carga. Para solicitar productos, comuníquese con:info@zaferroalloy.com.