Introducción relacionada con el objetivo de pulverización catódica de tantalio
El blanco de tantalio para pulverización catódica es una lámina de tantalio obtenida mediante procesamiento a presión, con alta pureza química, tamaño de grano pequeño, buena estructura de recristalización y consistencia en tres ejes. Se utiliza principalmente para el recubrimiento por deposición catódica de fibras ópticas, chips semiconductores y circuitos integrados. El blanco de tantalio se puede utilizar para el recubrimiento por pulverización catódica, materiales activos de absorción de alto vacío, etc. Es un material importante para la tecnología de película delgada.
Parámetros relacionados con los objetivos de tantalio
| Material | Materiales de aleación de tantalio |
| Pureza | 99,9%-99.999%, 3N,3N5,4N,5N, etc. |
| Tamaño | D50,8 x 3 mm, 1-10 mm, D3 x 3 mm, 2 pulgadas, 3 pulgadas o según pedido |
| Color | Color blanco |
| Forma | Pellets, gránulos, planos/redondos/en placa/giratorios/en barra, según solicitud. |
| Superficie | Superficie pulida |
| Densidad Ta | 16,65 g/cm3 |
| Punto de fusión Ta | 2996 grados |
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