Objetivo de pulverización catódica de metal puro Ta

Objetivo de pulverización catódica de metal puro Ta

Pureza: 99,9%
Plazo de entrega: 15-18 días
Superficie: Pulida y brillante.
Certificado: ISO9001:2015
Cantidad mínima de pedido: 1 pieza
Envíeconsulta
Descripción
Parámetros técnicos
Usos de los objetivos de tantalio

 

Se puede utilizar para fabricar recipientes de evaporación, etc., y también se puede utilizar como electrodos para tubos electrónicos, rectificadores, condensadores electrolíticos, etc.

Se utiliza en medicina para fabricar láminas finas o filamentos y reparar tejidos dañados.

Es ampliamente utilizado en industrias químicas, electrónicas, eléctricas, militares y otras.

Los objetivos de tantalio se utilizan ampliamente en semiconductores, almacenamiento, militares, aeroespaciales, vidrio, recubrimiento PVD, recubrimiento CVD, etc.

 

Especificaciones de los objetivos de tantalio

 

Artículo
Objetivos de tantalio puro
Pureza disponible
99.95%
Talla disponible
Tamaño popular 1''-20'' según solicitud del cliente
Forma disponible
Rectángulo, Redondo, Rotatorio, Pellets, Lingotes,
Tecnología
Sinterización

 

Nuestro servicio

 

1. Haremos todo lo posible para responder las solicitudes de nuestros clientes dentro de las 24 horas.

2. Mantendremos comunicaciones efectivas y eficientes con nuestros clientes.
3. Ofrecemos control de calidad y servicios posventa de primera clase.

 

Visita de cliente y entorno de la empresa

 

Pure Tantalum metal sputtering target

ta metal sputtering target

Zhenan es un proveedor profesional de productos de metal en China con excelente calidad, precios favorables y buena reputación. Le invitamos a visitar nuestra fábrica.

Etiqueta: Objetivo de pulverización catódica de metal puro ta, fabricantes de objetivos de pulverización catódica de metal puro ta de China, proveedores, fábrica, aleación tantalum para la industria automotriz, Tantalum Strip para dispositivos médicos