Introducción y método de preparación del blanco de circonio
El material de destino de circonio es un material utilizado en el proceso de deposición de película delgada, compuesto principalmente por el elemento circonio (Zr). Tiene un alto punto de fusión, buena estabilidad química y excelente resistencia a la corrosión, lo que lo convierte en una opción ideal para la fabricación de semiconductores, dispositivos optoelectrónicos y películas decorativas. Como material de destino, el material de destino de circonio puede producir vapor de circonio de alta pureza en procesos como la deposición física de vapor (PVD), formando así una película uniforme y de alta calidad.
Método de preparación
Método de fusión al vacío:
Proceso: Fundir el metal circonio en un entorno de vacío.
Ventajas: Evita la oxidación y las impurezas, y garantiza la alta pureza del material objetivo.
Tecnología de prensado isostático en caliente:
Proceso: Utilice alta temperatura y alta presión para densificar el polvo de circonio en un material objetivo.
Ventajas: Produce una estructura objetivo uniforme y de alta densidad.
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Especificaciones del objetivo de circonio
Requisitos de tracción
| Calificación | Resistencia a la tracción (mín.) | Límite elástico (min) | Alargamiento (%) | ||
| ksi | MPa | ksi | MPa | ||
| 1 | 35 | 240 | 20 | 138 | 24 |
| 2 | 50 | 345 | 40 | 275 | 20 |
| 3 | 65 | 450 | 55 | 380 | 18 |
| 4 | 80 | 550 | 70 | 483 | 15 |
| 5 | 130 | 895 | 120 | 828 | 10 |
| 7 | 50 | 345 | 40 | 275 | 20 |
| 9 | 90 | 620 | 70 | 438 | 15 |
| 12 | 70 | 438 | 50 | 345 | 18 |
Entorno de la empresa y visitas a clientes
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