Principales áreas de aplicación de los objetivos de tungsteno.
Debido a su alto punto de fusión, alta densidad y buena resistencia a la corrosión, los objetivos de tungsteno se utilizan ampliamente en muchos campos:
Industria de semiconductores: se utiliza para fabricar electrodos de compuerta, cableado de conexión, barreras de difusión, etc. Imágenes médicas: se utiliza para producir rayos X y rayos gamma para diagnóstico. Aeroespacial: se utiliza para fabricar componentes y elementos combustibles de alta temperatura. Industria electrónica: se utiliza para recubrimiento por evaporación por haz de electrones, recubrimiento por pulverización catódica por haz de iones, etc. Dispositivos médicos: se utiliza para fabricar componentes de equipos médicos de alta temperatura.
Principales parámetros del objetivo de tungsteno.
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Punto de fusión (grados) |
3407 |
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Densidad (g/cm³) |
19.35 |
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Punto de ebullición (grados) |
5657 |
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Tecnología |
Fusión al vacío, proceso termomecánico patentado y trabajo a máquina. |
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Solicitud |
Semiconductores, Microelectrónica, etc. |
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volumen atómico |
9,53 cm3/mol |
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Estructura cristalina y constante de red. |
- W: BCC a=3.16524 nm (25 grados) |
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-W |
Red cúbica a=5.046 nm (estable por debajo de 630 grados) |
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Calor latente de fusión |
40,13 ± 6,67 kJ/mol |
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Calor de sublimación |
847,8 kJ/mol (25 grados) |
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Calor de evaporación |
823,85 ± 20,9 kj/mol (punto de ebullición) |
Visualización de imagen de objetivo de tungsteno
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