Selección y aplicación de objetivos de niobio.
La selección deobjetivos de niobionecesita considerar múltiples factores, incluida la pureza, la densidad, la estructura reticular y la calidad de la superficie. Cuanto mayor sea la pureza, mejor será el rendimiento del objetivo; el objetivo con alta densidad tiene una mejor tasa de pulverización; la estructura reticular afecta las propiedades físicas, como la conductividad térmica y la resistencia; la calidad de la superficie afecta la velocidad de pulverización catódica y la calidad de la película.
Los objetivos de niobio se utilizan ampliamente, principalmente para la preparación de películas superconductoras de alta temperatura, adecuadas para la electrónica, la electricidad, la energía y otros campos. En la transmisión de energía, las películas superconductoras de alta temperatura pueden reducir en gran medida las pérdidas de transmisión y mejorar la eficiencia de la transmisión. Además, los objetivos de niobio también se utilizan en industrias como pantallas de cristal líquido, industria de energía solar, recubrimientos resistentes al calor y a la corrosión, etc.
Parámetros básicos de los objetivos de niobio.
| Forma | Pellets, gránulos, planos/redondos/placas/rotativos/barras, según petición. |
| Superficie | Superficie pulida |
| Densidad | 8,58g/cm3 |
| Punto de fusión | 2468 grados |
| Solicitud | Recubrimiento de película PVD, recubrimiento de película delgada óptica, uso industrial, procesos, área de semidoductores, experimentos, etc. |
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Preguntas frecuentes
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