Objetivo de níquel

Objetivo de níquel

Pureza: 99,95%
Plazo de entrega: 15-18 días
Superficie: Pulida y brillante
Certificado: ISO9001:2015
Cantidad mínima de pedido: 1 pieza
Envíeconsulta
Descripción
Parámetros técnicos
Introducción al objetivo de níquel de Zhenan y al proceso de preparación.

 

objetivo de níqueles un material utilizado para la preparación de películas delgadas, que generalmente se convierte en películas delgadas mediante deposición química de vapor (CVD) y deposición física de vapor (PVD) y otras tecnologías. El objetivo de níquel está hecho principalmente de níquel metálico de alta pureza y generalmente se requiere que su pureza sea del 99,995% o superior.

Proceso de preparación
El proceso de preparación del objetivo de níquel incluye principalmente metalurgia al vacío y deposición química de vapor. La metalurgia al vacío funde y solidifica partículas de níquel en materiales objetivo mediante fundición a alta temperatura y solidificación por enfriamiento. El método de deposición química de vapor utiliza reactivos gaseosos para reaccionar químicamente en la superficie del sustrato a alta temperatura para generar una película delgada de NiO. Además, el método sol-gel también es un método de preparación comúnmente utilizado, en el que se utiliza un precursor químico para formar un sol en un disolvente, luego se obtiene un gel mediante tratamiento térmico y finalmente se calcina un objetivo de NiO.

 

Parámetros del producto objetivo de pulverización catódica de níquel

 

Nombre del producto Objetivo de pulverización catódica de níquel
Pureza disponible 99,9% mínimo, según lo solicite
Forma disponible redondos, rectangulares, pellets
Tamaño 1''-8'',Según su solicitud
tecnología Fusión
Cotización Somos una fábrica y podemos fundir según la proporción de aleación del cliente. Para obtener más información, comuníquese con el gerente de ventas (el precio del título es solo de referencia, consulte ventas para obtener una cotización específica)
Solicitud Materiales de película fina. Recubrimiento al vacío, Proceso, Decoración, LED, Semi,
Productos relacionados W, Mo, Ta, Nb, Zr, Ni, Cu, Cr, Sn, V, T

 

Exhibición del producto objetivo de pulverización catódica de níquel

 

Nickel Alloy Target
Objetivos de pulverización catódica de níquel de alta pureza
Nickel Sputtering Target
Objetivo de aleación de níquel
¿Por qué elegirnos?

 

1. Certificación de calidad

Los productos han pasado la certificación del sistema de gestión de calidad IS09001.

2. Soporte OEM/ODM

Compatible con OEM/ODM. Contamos con un excelente equipo de diseño para satisfacer las necesidades de diferentes clientes.

3. Servicio atento

Equipo profesional de ventas e ingenieros, línea directa de 7*24 horas para resolver sus problemas

 

Visitas de clientes y fotografías del entorno de la empresa.

 

High Purity Nickel Sputtering Targets

Nickel Sputtering Target

Preguntas frecuentes sobre ZhenAn

 

1. ¿Puedes mantener el precio unitario sin cambios desde la última vez?

El precio de nuestros productos fluctuará según el precio de las materias primas y podrá subir o bajar. Incluso si la fluctuación es grande, haremos todo lo posible para mantener el mejor precio para usted.

2. ¿Qué productos suministran principalmente?

Suministramos principalmente tungsteno, molibdeno, circonio, tantalio, niobio y sus productos de aleaciones.

3. ¿Cuál es el control de calidad de su empresa?

Contamos con la certificación ISO 9001:2015 y debemos inspeccionar estrictamente nuestros productos por parte del departamento de control de calidad antes del envío.

4. ¿Qué servicios podemos brindar?

Condiciones de entrega aceptadas: FOB, CFR, CIF, EXW, FAS, CIP, FCA, Express;

Métodos de pago aceptados: T/T, L/C, PayPal;

6. ¿Pueden fabricar productos con mi diseño?

Sí, podemos, brindamos servicios personalizados. Puede enviarnos todos los detalles que necesita y luego le proporcionaremos una cotización detallada.