Objetivos de tantalioSe utilizan principalmente en varios procesos de deposición de películas delgadas, que cubren una variedad de campos de alta tecnología, desde la fabricación de productos electrónicos y semiconductores hasta recubrimientos anticorrosión y equipos médicos.
En el campo de la electrónica y la fabricación de semiconductores, los objetivos tantalum se han convertido en una fuente importante de materiales de película delgada a través de la deposición física de vapor (PVD) o la tecnología de deposición de vapor químico (CVD). Se utiliza principalmente para el recubrimiento de semiconductores y el recubrimiento óptico, como la formación de barreras de difusión de películas delgadas para proteger las interconexiones de cobre y para la fabricación de productos como medios de almacenamiento magnético, cabezales de impresora de inyección de tinta y pantallas planas.
Además, los objetivos de tantalio también se utilizan ampliamente en la fabricación de equipos químicos, tubos de vacío, dispositivos médicos e implantes debido a su excelente resistencia a la corrosión, alto punto de fusión y biocompatibilidad. En equipos químicos, los objetivos de tantalio pueden soportar altas temperaturas, ácidos fuertes y álcalis fuertes, y muestran una estabilidad extremadamente alta.
Pantalla de producto de Tantalum Sputtering Target
