Aplicación en el campo de los semiconductores.
En la fabricación de semiconductores,objetivos de tungstenose utilizan principalmente en fotolitografía y tecnología de deposición de películas delgadas. En el proceso de fotolitografía, la alta densidad, la alta dureza y la baja reactividad química de los objetivos de tungsteno les permiten proporcionar un control preciso del grabado durante el grabado con plasma, reducir la pérdida innecesaria de material y garantizar la finura e integridad de los patrones del circuito. En la tecnología de deposición de película delgada, los objetivos de tungsteno forman películas densas mediante deposición física de vapor (PVD) y deposición química de vapor (CVD). Estas películas tienen alta dureza y resistencia al desgaste, lo que mejora la resistencia mecánica y la durabilidad de los dispositivos semiconductores. Al mismo tiempo, su alta conductividad y baja impedancia ayudan a mejorar la eficiencia de conducción de la corriente y reducir el consumo de energía.
Aplicación en fuente de neutrones por espalación.
Los objetivos de tungsteno también desempeñan un papel clave en los dispositivos de fuente de neutrones por espalación. Las fuentes de neutrones por espalación producen neutrones bombardeando núcleos atómicos pesados con protones de alta energía, que se utilizan para estudiar la microestructura y las propiedades dinámicas de la materia. El tungsteno se ha convertido en un material preferido en dispositivos de fusión nuclear y fuentes de neutrones por espalación debido a su alto punto de fusión, alta conductividad térmica y baja tasa de pulverización.