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¿En qué industrias se utilizan ampliamente los objetivos de tungsteno?
Industria de semiconductores: los objetivos de tungsteno se utilizan en el proceso de metalización en la fabricación de semiconductores. Debido a su excelente conductividad y resistencia a la electromigración, los objetivos de tungsteno pueden usarse como barreras conductivas y materiales de contacto, que son esenciales para la fabricación de circuitos integrados.
Industria de la pantalla del panel plano: los objetivos de tungsteno se utilizan en técnicas de deposición de vapor físico (PVD), como la pulverización para depositar películas delgadas en varias superficies, lo que ayuda a producir pantallas de paneles planos de alta calidad.
Industria solar fotovoltaica: los objetivos de tungsteno se utilizan para fabricar películas delgadas que constituyen la estructura de las células solares. Estas películas pueden actuar como barreras para proteger los materiales sensibles dentro de la célula solar del daño ambiental al tiempo que mantienen la conductividad, mejorando así la eficiencia y el rendimiento de los paneles solares.
Industria médica: en el campo médico, los objetivos de pulverización de tungsteno se utilizan para producir recubrimientos para dispositivos médicos. Estos recubrimientos se valoran por su radiopacidad, lo que mejora la visibilidad de los implantes y herramientas médicas bajo imágenes de rayos X, lo que facilita el posicionamiento y el monitoreo precisos durante los procedimientos médicos.
Industria aeroespacial: los objetivos de tungsteno se utilizan para fabricar cuchillas de turbina para turbinas de gas y turbinas de generación de energía. El alto punto de fusión, la alta densidad y la resistencia a la corrosión de los objetivos de tungsteno los hacen ideales para aplicaciones de alto estrés.
Fabricación de tubos de rayos X: el tungsteno es un material común para el objetivo del ánodo en tubos de rayos X. Cuando los electrones de alta energía alcanzan el objetivo de tungsteno, producen radiografías, que se utilizan ampliamente en imágenes médicas, inspección industrial e investigación científica.
Zhenan High Pureity Wputtering Target Wputtering




Tabla de parámetros del producto del objetivo de pulverización de metal de tungsteno puro
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Nombre del producto |
Tungsteno (W) Target de pulverización |
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Pureza disponible (%) |
99.95(3N5) |
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Forma |
Plano, redondo, rectángulo |
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Color |
Blanco plateado |
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Tamaño |
Como su solicitud |
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Punto de fusión (grado) |
3407 |
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Densidad (g\/cm³) |
19.35 |
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Punto de ebullición (grado) |
5657 |
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