Introducción al objetivo de tantalio
Los objetivos de pulverización catódica de tantalio (Ta) se pueden utilizar para semiconductores, deposición química en fase de vapor (CVD) y deposición física en fase de vapor (PVD) y aplicaciones ópticas. Eternal Elements se especializa en la producción de objetivos de pulverización catódica de tantalio (Ta) de alta pureza con la mayor densidad y el precio más bajo.
Nos centramos en la producción de composiciones personalizadas para aplicaciones comerciales y de investigación, así como para nuevas tecnologías patentadas. En el sitio web se enumeran otros materiales de deposición, fuentes de evaporación y otros objetivos de pulverización catódica.
Otros objetivos de pulverización catódica de tantalio (Ta) de pureza: 99,9 % - 99,95 %
Otras formas de objetivos de pulverización catódica de tantalio (Ta): disco, placa, objetivo de pilar, objetivo escalonado, personalizado
Embalaje: Los objetivos de pulverización catódica de tantalio (Ta) se envasan al vacío. Las hojas de datos de seguridad del material y las hojas de certificación del material se empaquetarán junto con el producto.
Plazo de entrega: 2-5 semanas para objetivos de pulverización catódica, 1-2 semanas para unión.
Parámetros objetivo del tantalio
| Nombre | Ta objetivo | |||
| Material | Tantalio | |||
| Pureza | 99.9~99.999% | |||
| Tamaño | Personalizado | |||
| Color | Plata | |||
| Forma | Personalizado | |||
| Superficie | Superficie pulida; Ra menor o igual a 0,8 μm | |||
| Densidad | Mayor o igual a 16,43 g/cm³ (99%) | |||
| Solicitud | Se utiliza para semiconductores, recubrimiento de película PVD, recubrimiento de película fina óptica, recubrimiento de película decorativa, etc. | |||
Nuestras ventajas
1. Precios competitivos.
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3. Mismo precio, calidad confiable.
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Visita de cliente y entorno de la empresa
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