Aplicación de objetivos de tantalio
Los objetivos de tantalio se denominan generalmente objetivos desnudos. Primero se sueldan a objetivos de cobre y luego se realiza una pulverización catódica óptica o de semiconductores para depositar átomos de tantalio sobre materiales de sustrato en forma de óxidos para lograr un recubrimiento por pulverización catódica; los objetivos de tantalio se utilizan principalmente en el recubrimiento de semiconductores, el recubrimiento óptico y otras industrias. En la industria de semiconductores, el tantalio metálico se utiliza actualmente principalmente como material objetivo para formar una capa de barrera mediante deposición física de vapor.
Deposición por pulverización catódica de fibra,
Recubrimiento de obleas semiconductoras y circuitos integrados
Recubrimiento por pulverización catódica
Bombeo de alto vacío de materiales activos
Parámetros de los objetivos de tantalio
| Material | Ta objetivo |
| Pureza | 99.9%-99.99% |
| Tamaño | Diámetro 1", 2", 3", 4" o personalizado |
| Densidad relativa | por encima del 99% |
| Forma | Redondos, rectangulares, granulados o personalizados. |
| Vinculación | Indio, elastómero |
| Superficie | Suelo |
| Certificado de autenticidad | Se proporcionará por correo electrónico después del envío. |
| Análisis | ICP-OES o MSDS |
| Cotización | Responder en 24 horas |
| Paquete | Sellado al vacío en el interior y caja de madera en el exterior. |
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