Características principales de los objetivos de tantalio de Zhenan
Los objetivos de tantalio suelen presentarse en forma de discos o placas rectangulares, pero también pueden fabricarse en distintas formas y tamaños según los requisitos específicos de la aplicación. Sus principales características estructurales incluyen:
Alta pureza: normalmente superior al 99,9 %, a veces incluso hasta el 99,999 %. La alta pureza garantiza que no se introduzcan impurezas no deseadas durante el proceso de deposición de película fina.
Uniformidad: Los objetivos de tantalio deben tener una microestructura uniforme para garantizar una distribución uniforme del material durante la deposición de una película delgada.
Alta densidad: La uniformidad de la densidad es fundamental para garantizar la estabilidad durante la deposición.
Especificaciones del objetivo de tantalio
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Diámetro (mm)
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Espesor (mm)
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4 milímetros - 100 milímetros
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0,1 mm - 3 mm
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Estampado
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>4 milímetros
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>1 milímetro
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Maquinado a máquina
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Preguntas frecuentes Sobre nosotros
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Visita de cliente y entorno de la empresa


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