Clasificación de formas e introducción relacionada de objetivos de tantalio
Los objetivos de tantalio se pueden dividir en dos tipos según sus formas: objetivos planos redondos, rectangulares y triangulares y objetivos giratorios.
Los objetivos de tantalio se pueden dividir en dos tipos según el proceso de preparación de la pieza bruta del objetivo: objetivos de forja por fundición y objetivos formados en polvo. El material del objetivo limita las propiedades físicas y mecánicas de la película pulverizada y afecta la calidad del recubrimiento.
Los objetivos de tantalio deben cumplir principalmente los siguientes requisitos: ① Bajo contenido de impurezas y alta pureza. La pureza del material objetivo afecta directamente la composición de la película. ② Estructura interna uniforme. La estructura interna, como el tamaño del grano y la textura, afecta la velocidad de pulverización catódica y la distribución del espesor de la película. ③ Composición y estructura organizativa uniformes. La composición y organización uniformes del objetivo son garantías importantes para una calidad de recubrimiento estable.
Tabla de parámetros de especificación de objetivos de tantalio
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Calificación |
Ejército de reserva |
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El tiempo de entrega |
15-18 días |
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Nombre del producto |
Materiales de recubrimiento PVD de película fina de tantalio con objetivo de 99,95 % y 99,99 % de metal |
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Palabra clave |
Materiales de tantalio metálico Ta |
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Forma |
Barra, granulado, circular, rectangular, pellet |
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Cantidad mínima de pedido |
1 pieza |
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Tamaño |
Tamaños personalizados |
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Pureza |
99.95%-99.99% |
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Certificado |
ISO9001:2015 |
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