Objetivo de tantalio al 99,98%

Objetivo de tantalio al 99,98%

Pureza: 99,95% mínimo
Densidad: 16.65g/cm3
Ventajas: alta densidad
Forma: redonda
Envíeconsulta
Descripción
Parámetros técnicos
Principales áreas de aplicación de los objetivos de tantalio.

 

objetivo de tantalioLos productos se utilizan principalmente en muchos campos de alta tecnología, como la fabricación de electrónica y semiconductores, recubrimientos anticorrosión y equipos médicos.

En el campo de la electrónica y la fabricación de semiconductores, los objetivos de tantalum se han convertido en una fuente importante de materiales de película delgada a través de la tecnología de deposición de vapor físico (PVD) o deposición de vapor químico (CVD), y se utilizan para fabricar varios dispositivos electrónicos y componentes semiconductores.

En términos de recubrimientos anticorrosión, los objetivos de tantalio se utilizan ampliamente para fabricar equipos y componentes que necesitan resistir ambientes corrosivos debido a su excelente resistencia a la corrosión, como reactores y tuberías en equipos químicos.

En el campo de los equipos médicos, los objetivos tantalum tienen una buena biocompatibilidad y pueden usarse para fabricar dispositivos médicos como articulaciones artificiales y placas de reparación del cráneo.

Además, con la continua aceleración de la electrificación en nuevos proyectos de infraestructura, vehículos de nueva energía e Internet industrial, así como el uso generalizado de equipos de comunicaciones móviles y tecnologías inalámbricas, la demanda de aplicaciones de objetivos de tantalio en condensadores, lentes ópticas y sustratos de filtros. , etc. también sigue creciendo.

 

Parámetros detallados de los productos Zhenan Tantalum Sputtering Target

 

Objetivos de pulverización circular

Diámetro

1.0"

2.0"

3.0"

4.0"

5.0"

6.0"

hasta 21"

Objetivos de pulverización rectangulares

Ancho x Largo

5" x 12"

5" x 15"

5" x 20"

5" x 22"

6" x 20"

Espesor

0.125", 0.25"

 

Pantalla de imagen del producto Tantalum Tantalum de alta pureza de alta pureza
Pure Tantalum metal sputtering target supplier
Empresa objetivo de pulverización catódica de tantalio de alta pureza
ta metal sputtering target supplier
Pure Ta Metal Sputtering Target Company
¿Por qué elegirnos?

 

1. Certificación de calidad

Los productos han pasado la certificación del sistema de gestión de calidad IS09001

2. Soporte OEM/ODM

Soporte OEM/ODM. Contamos con un excelente equipo de diseño para satisfacer las necesidades de diferentes clientes.

3. Servicio reflexivo

Equipo de ventas e ingenieros profesionales, línea directa de 7*24 horas para resolver sus problemas

 

Preguntas frecuentes sobre nosotros

 

1. ¿Puede mantener el precio unitario sin cambios desde la última vez?

El precio de nuestros productos fluctuará de acuerdo con el precio de las materias primas, y puede aumentar o caer. Incluso si la fluctuación es grande, haremos todo lo posible para mantener el mejor precio para usted.

2. ¿Qué productos suministras principalmente?

Principalmente suministramos tungsteno, molibdeno, circonio, tantalio, niobio y sus productos de aleación.

3. ¿Cuál es el control de calidad de su empresa?

Tenemos la certificación ISO 9001: 2015, y debemos inspeccionar estrictamente nuestros productos por el departamento de control de calidad antes del envío.